Ой, сталась помилка! А де ж JavaScript? Схоже, що Ваш переглядач не підтримує технологію JavaScript або її вимкнено. Будь ласка, увімкніть JavaScript для коректного відображення цього сайту, або використайте іншого переглядача інтернет сторінок, який має підтримку JavaScript.

Новини

28.04.23 Науковий семінар "Індукована оловом кристалiзація аморфного кремнiю під дією лазерного випромінювання"

28.04.23 Науковий семінар "Індукована оловом кристалiзація аморфного кремнiю під дією лазерного випромінювання"

Шановні студенти, аспіранти та викладачі кафедри Приладної фізики, 28-го квітня 2023 року о 16:10, аспірант кафедри прикладної фізики НН ФТІ Ольхович Ілля Володимирович запрошує вас взяти участь у науковому семінарі за темою "Індукована оловом кристалiзація аморфного кремнiю під дією лазерного випромінювання".

Доповідь семінару за матеріалами роботи над дисертацією доктора філософії.

Семінар є частиною регулярного наукового семінару кафедри прикладної фізики КПІ ім. Ігоря Сікорського.

Анотація семінару: Доповідь присвячена вивченню процесів iндукованої оловом кристалiзацiї аморфного кремнiю та механізмів формування нанокристалів кремнію в шаруватих структурах a-Si/Sn.
Запропоновано механізм індукованої оловом кристалізації через циклічне утворення і розпад пересиченого розчину кремнію в олові евтектичного шару на межі розділу аморфного кремнію та металевого олова. 
Експериментально продемонстрована можливість отримання за допомогою індукованої металом кристалізації у плівкових шаруватих структурах a-Si/Sn нанокристалів кремнію з домінантними розмірами в діапазоні 2-7 нм. Встановлено, що утворення нанокристалів починається при темпертурі 230 ℃. 
Виявлено прискорення індукованої оловом кристалізації аморфного Si під впливом лазерного випромінювання порівнянно з кристалізацією в темноті при такій же температурі. Показано існування нетеплової компоненти стимулюючого впливу лазерного світла на процеси індукованої оловом трансформації кремнія із аморфного у нанокристалічний стан.  
Встановлено, що при виготовленні шаруватих плівок Si-Sn-Si   методом термічного вакуумного напилення товщина шару олова та її співвідношення з шарами кремнію визначають форму і масштаб періодичної структуризації рельєфу поверхні, яка важлива для виготовлення реальних електронних приладів. Головним елементом структурування рельєфу поверхні плівок виявилися квазі-сферичні утворення діаметром від 20 нм до 2-3 мкм, первинне структурування яких відбувається у вигляді утворення шару півсферичних мікрокрапель олова вже в ході його осадження. Вторинне структурування відбувається на етапі осадження другого шару кремнію на шар олов’яних півсфер. На цьому етапі відбувається формування шару аморфного напівпровідника на поверхні рідкого металу.
Отримані результати можуть викорастані для виготовлення та контролю якості плівкового нанокристалічного кремнію для ізоморфних сонячних елементів каскадного типу.

Час проведення семінару 16:10

Семінар буде проводитись онлайн на платформі zoom.us.

Для отримання посилання необхідно зареєструватися заповнивши гугл-форму (якщо ви вже реєструвались на попередній семінар, посилання буде надіслано автоматично).
На вказану у google-формі пошту буде надіслано посилання на конференцію.
Також ви можете зазделегіть поставити питання доповідачу заповнити гугл-форму.

Досвід попередніх семінару показав необхідність поліпшити організацію проведення семінару, тому було вирішено не розміщувати одразу посилання на конференцію, а проводити попередню реєстрацію. Просимо вибачення за можливі незручності та в разі появи проблем звертайтесь до технічного організатора ст. викладача кафедри ПФ Беха Станіслава.

На нашому youtube каналі буде розміщено відео-запис семінару.